作為為半導體前端和先進晶圓級封裝應用提供晶圓加工解決方案的領先設備供應商，上海梅生有限公司最近幾天宣布推出具有自主知識產權的UltraPmaxTM等離子體增強化學氣相沉積設備，拓展了一個重要的新產品類別盛上海預計將在幾周內將其第一臺PECVD設備交付給中國的一家IC客戶

梅生上海首席執行官王堅表示:UltraPmaxTMPECVD設備的推出，標志著我們在之前的半導體應用領域進一步拓展到一個全新的工藝領域我們的許多客戶都是28納米及以上邏輯器件的供應商我們預測成熟工藝節點產能的增長，因為中國市場對成熟工藝節點產能的需求明顯供不應求這套PECVD設備使梅生上海能夠滿足全球先進邏輯和存儲芯片市場的需求，同時也將更好地為全球客戶服務我們預計，此次推出的PECVD設備以及上個月發布的前涂層和顯影設備UltraLith，將使我們的全球可服務市場規模翻一番

UltraPmaxTMPECVD設備配備了自主知識產權的腔體，氣體分布裝置和卡盤設計，可以提供更好的薄膜均勻性，更小的薄膜應力和更少的顆粒特性該設備采用單腔模塊化設計，有兩種配置:一種是可以配置一到三個腔模塊，適用于極薄的膜層或快速工藝步驟，另一個是可以配置四至五個腔模塊來支持厚膜沉積和更長的處理時間，同時優化生產率在上述兩種配置中，多個加熱卡盤安裝在每個空腔中，以優化工藝控制并提高生產率