長期以來，我國的光刻技術(shù)落后于先進(jìn)國家，近年來，在國家政策的扶持下，我國光刻機(jī)技術(shù)也開始了飛速的發(fā)展，本文北京研精畢智信息咨詢有限公司對中國光刻機(jī)發(fā)展現(xiàn)狀進(jìn)行了分析。

1、行業(yè)政策

2016年8月國務(wù)院印發(fā)《“十三五”國家科技創(chuàng)新規(guī)劃》，提出攻克14nm刻蝕設(shè)備、薄膜設(shè)備、摻雜設(shè)備等高端制造裝備及零部件，突破28nm沉沒式光刻機(jī)及核心部件，研發(fā)14nm邏輯與存儲(chǔ)芯片成套工藝相應(yīng)系統(tǒng)封測技術(shù)，形成28-14nm裝備、材料、工藝、封測等較完整的產(chǎn)業(yè)鏈。

2017年科技部發(fā)布《國家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)“十三五”規(guī)劃建議》，優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)，推進(jìn)集成電路及專用裝備關(guān)鍵核心技術(shù)突破和應(yīng)用。

2、市場規(guī)模

近年來，中國光刻機(jī)有著較大的進(jìn)步。2019年我國光刻機(jī)市場規(guī)模就已超過200億元，占據(jù)全球市場的20%以上。隨著國內(nèi)光刻機(jī)制造商的成長和崛起，2021年我國光刻機(jī)市場規(guī)模達(dá)到了300億元以上，上海微電子等企業(yè)生產(chǎn)的光刻機(jī)在全球具有著一定的市場占有率。

3、進(jìn)口情況

在光刻機(jī)進(jìn)口貿(mào)易方面，2017-2020年我國光刻機(jī)進(jìn)口數(shù)量和進(jìn)口金額呈現(xiàn)先降低后上升趨勢。2020年，我國進(jìn)口光刻機(jī)數(shù)量約240臺(tái)，進(jìn)口金額為19億美元左右；2021年進(jìn)口數(shù)量和進(jìn)口金額分別約為250臺(tái)和21億美元。

4、出口情況

從光刻機(jī)出口貿(mào)易方面看，2017-2020年我國光刻機(jī)出口數(shù)量和出口金額呈現(xiàn)先上升后下降的趨勢。2020年我國光刻機(jī)出口數(shù)量約40臺(tái)，出口金額約9550萬美元；2021年出口數(shù)量和金額分別下降到20臺(tái)、1650萬美元。

從出口企業(yè)注冊地看，我國出口的光刻機(jī)大部分由上海企業(yè)出口，主要是因?yàn)樯虾５貐^(qū)分布著我國光刻機(jī)的領(lǐng)先企業(yè)——上海微電子和芯源微。其次是江蘇、安徽、山東和浙江地區(qū)。

5、下游分析

光刻機(jī)下游主要為半導(dǎo)體行業(yè)，整體需求受半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)影響較大。隨著全球和中國半導(dǎo)體市場規(guī)模擴(kuò)張，光刻膠需求保持穩(wěn)步增長。據(jù)北京研精畢智團(tuán)隊(duì)的數(shù)據(jù)小時(shí)，2021年中國集成電路銷售額超過1萬億元，同比增長18%以上。